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真空镀膜工艺之蒸发镀膜的工作原理

2016-05-26阅读 分享 0

  真空镀膜,一般是指用物理的方法沉积薄膜。目前真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。那么什么是蒸发镀膜呢?

  通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。

  蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。

  蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质,电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质;③电子束加热源:适用于蒸发温度较高的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。

  为沉积高纯单晶膜层,可采用分子束外延方法。喷射炉中装有分子束源,在超高真空下当它被加热到一定温度时,炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度,沉积在基片上的分子可以徙动,按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜,薄膜最慢生长速度可控制在1单层/秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。

 

真空镀膜

 

   古德邦电镀加工技术参数

型号:非金属制品电镀加工

品牌

古德邦(Goodbong)

电镀加工形式

真空镀膜

制作周期

4~10

可电镀材质

 塑料(PMMA、ABS、PVC)、树脂、玻璃制品 等非金属

可电镀颜色

金色、银色、紫色 等纯色

使用寿命

外镀3-5年,内镀5-7年

电镀规格

根据所电镀产品尺寸标准

最大可电镀尺寸

1.5m*5m

电镀工艺

标准工艺

古德邦电镀优势

色泽清晰美观,呈不锈钢效果,耐磨耐用

电镀产品包装

近距离坚固纸箱,远距离木箱包装

物流运输

陆运、海运、空运,国内3~5天,国外5~20

 

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