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真空电镀的工艺与特点

2016-05-11阅读 分享 0

   真空电镀主要分为真空蒸镀、溅射镀和离子镀。它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较高档产品的功能性镀层,例如作为内部屏蔽层使用。

  常见的塑胶产品电镀工艺有两种:水电镀和真空离子镀;真空离子镀,又称“真空镀膜”。真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法,做出来的产品金属感强,亮度高;而相对其它的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,现在为各行业广泛采用。

  真空电镀的工艺

  真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。

  加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。

  在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。

  置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。

  在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低( 10-5Pa )。

  镀层厚度0.04-0.1um太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90%。

  真空电镀的特点

  1. 真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复制出啤件表面的形状;

  2. 工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵;

  3. 蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低;

  4. 只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰;

  5. 对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷;

  6. 真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等。

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